Министерство промышленности и торговли России сообщило о запуске первого в стране оборудования для производства микрочипов. Данная вакуумная установка имеет возможность обрабатывать кремниевые пластины диаметром до 300 миллиметров и создавать электронные компоненты с проектными нормами в диапазоне до 65 нанометров.

Как отметили в ведомстве, это достижение является важным шагом в развитии полного цикла производства микроэлектроники в России. Работы по созданию оборудования проводились на базе АО «НИИМЭ» совместно с АО «НИИТМ», где разработаны кластерные установки для плазмохимического травления и осаждения.

Такое оборудование позволяет выполнять высокоточную обработку заготовок для чипов в условиях вакуума, что значительно повышает качество и эффективность производства.