Компания Dai Nippon Printing из Японии сделала шаг вперед в области нанолитографии, снизив затраты на производство чипов по сравнению с доминирующей на рынке фотолитографией. Как сообщает Nikkei Asia, нидерландская компания ASML контролирует до 90% рынка оборудования для фотолитографии, которая использует мощные УФ-лазеры для создания микросхем на кремнии. Этот процесс требует больших энергетических затрат, а стоимость машин достигает сотен миллионов долларов.
Однако новая разработка Dai Nippon Printing возвращает к жизни технологии нанолитографии, где рисунок на кремнии создается путем отпечатывания. Ранее считалось, что этот метод не подходит для чипов с топологическим узлом меньше 2 нанометров, но инженеры компании смогли преодолеть это ограничение, разработав новый материал для точного нанесения схемы.
Также используется оборудование от Canon, позволяющее создавать структуры размером до 1,4 нм. В итоге новая технология оказывается на 90% дешевле фотолитографии. Ведущие производители, такие как Samsung Electronics и TSMC, заинтересовались этой разработкой. Kioxia уже начала тестовое производство, и при успешных испытаниях массовое внедрение может начаться в 2027–2028 годах.
