Производители полупроводников в Китае активно модернизируют оборудование ASML, чтобы обойти международные экспортные ограничения и ускорить разработку технологий искусственного интеллекта. Согласно информации от Financial Times, китайские заводы, занимающиеся производством смартфонов и ИИ-чипов, усиливают производительность установок глубокого ультрафиолетового литографирования (DUV) от нидерландской компании ASML.

Из-за американских и голландских экспортных ограничений ASML не может поставлять свои современные DUV-системы в Китай, что заставляет местные фабрики использовать устаревшие машины, такие как Twinscan NXT:1980i, для создания чипов с размером 7 нм. Инсайдеры сообщают, что китайские предприятия закупают обновленные компоненты на вторичном рынке, включая механические платформы и оптические элементы, что позволяет им повысить точность производства.

Среди компаний, которые применяют такие методы, отмечаются Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) и Huawei. Эти шаги демонстрируют, как китайские производители чипов ищут пути обхода ограничений, направленных на замедление их технологического прогресса. В ASML подчеркнули, что строго соблюдают все законы и не поддерживают модернизацию, превышающую разрешенные параметры.

News Reporter

Warning: Undefined array key "morda" in /var/www/health/data/www/dotmediacup.spb.ru/wp-content/plugins/wx1-footerlink/wx1-footerlink.php on line 142

Warning: Undefined array key "footerdva" in /var/www/health/data/www/dotmediacup.spb.ru/wp-content/plugins/wx1-footerlink/wx1-footerlink.php on line 149

Warning: Undefined array key "footerdva" in /var/www/health/data/www/dotmediacup.spb.ru/wp-content/plugins/wx1-footerlink/wx1-footerlink.php on line 153