Китайская полупроводниковая сфера достигла важного этапа, представив прототип литографа для экстремального ультрафиолета (EUV), технология которого до недавнего времени принадлежала исключительно голландской компании ASML. Эта инновация критически важна для создания самых современных процессоров. Несмотря на усилия США предотвратить передачу этой технологии Китаю, новые данные свидетельствуют о значительном успехе китайских инженеров. На протяжении нескольких лет компании, такие как SMIC, пытались воспроизвести технологии ASML, привлекая экспертов и осуществляя обратную разработку. Для этих целей использовались устаревшие компоненты оборудования ASML. Хотя Китай ещё не начал серийное производство чипов с использованием EUV, источники сообщают о планах сделать это массовым к 2030 году. Развитие этой технологии происходит на фоне острого технологического противостояния с США, особенно в свете роста искусственного интеллекта. В Китае Huawei и SMIC активно создают производственные мощности. Литографические машины EUV — это результат многолетних исследований, использующих мощный лазер для создания ультрафиолетового излучения, необходимого для нанесения схем на кремниевые пластины.