Литографические сканеры не являются единственным необходимым оборудованием для производства полупроводниковых чипов. В то время как высокие технологии, такие как EUV, остаются недоступными для китайских инженеров, более простые процессы все чаще осуществляются с использованием местных разработок. По данным TrendForce, ссылаясь на китайские источники, в прошлом году доля отечественного оборудования в Китае достигла 35%, опередив намеченный план на 2025 год, который составлял 30%. Для сравнения, в 2024 году этот показатель не превышал 25%. В сегменте оборудования для травления и нанесения покрытий китайская продукция занимает более 40%. На одной из производственных линий TSMC, ведущего мирового контрактного производителя, проходит валидацию оборудование для травления 5-нм чипов. Также Naura обеспечивает более 60% производственной базы SMIC для 28-нм чипов. В то же время, уровень импортозамещения в области контроля и литографии составляет только 25% и 18%. Однако, по сравнению с 2022 годом, эти показатели значительно улучшились. Спрос на китайское оборудование увеличился на 80%, а власти требуют, чтобы новые линии были оборудованы на 50% местными технологиями. В прошлом году было оформлено 421 заказа на сумму $122 млн, поддерживаемых субсидиями.