Согласно сообщению, озвученному в конце марта заместителем министра промышленности России, в 2026 году начнется работа над первым отечественным литографом, использующим технологию 90 нанометров. В данный момент в стране уже имеется 350-нм модель, а также завершаются тестирования 130-нм устройства. Это событие стало важной вехой в процессе импортозамещения в области литографического оборудования, начатом в 2022 году.

Новая технология позволит производить широкий спектр микросхем, включая чипы для интернета вещей, автоэлектроники и других приложений. Генеральный директор Зеленоградского нанотехнологического центра (ЗНТЦ) Анатолий Ковалев сообщил о задачах, стоящих перед командой, среди которых снижение себестоимости и рискованных факторов при производстве.

К тому же, в марте 2026 года ЗНТЦ заключил два контракта на поставку новых машин. Прогнозируется, что к 2030 году возможно создание установок на 65 нм и 28 нм, что является хорошей новостью для российской микроэлектроники.