В 2026 году Россия начнёт разработку литографа для изготовления чипов по технологии 90 нм, сообщил 20 марта на научно-технической конференции в области радиоэлектронной промышленности заместитель министра Василий Шпак. Исполнитель проектов будет выбран после конкурса, а сама работа ведётся Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗТНЦ) в сотрудничестве с белорусским предприятием «Планар», которое ранее занималось литографами на 350 нм и 130 нм. Генеральный директор ЗНТЦ, Анатолий Ковалёв, отметил, что ещё не принято решение о их участии в конкурсе. Запланировано завершение разработки степпера с разрешением 130 нм к ноябрю 2026 года. Эксперт Дмитрий Пшиченко заявил, что создание литографа с нуля может занять от пяти до десяти лет, а локализация существующих решений потребует от двух до четырёх лет. Основное значение имеет создание экосистемы фотошаблонов и материалов для массового производства. На данный момент в России разработан литограф на 350 нм, а работа над 130 нм продолжается, стоимость которого составит 6 млн долларов.