В Зеленограде появились новые разработки в области микроэлектроники: компании НИИМЭ и НИИТМ представили оборудование, предназначенное для плазмохимического осаждения и травления — ключевых этапов в производстве чипов. В мире только пять компаний занимаются производством подобных установок.

На презентации, состоявшейся 10 декабря, были подписаны документы о госприемке оборудования. НИИ молекулярной электроники стал основным исполнителем проекта, обеспечив создание чистых помещений и испытания оборудования, при этом инвестиции составили 2,5 млрд рублей, включая средства от Минпромторга.

Представленные системы кластерного типа позволят производить микросхемы на 200 мм и 300 мм пластинах, что соответствует современным стандартам. Это обеспечит гибкость в производственных процессах и повысит качество чипов. НИИМЭ и НИИТМ вошли в число мировых лидеров в данной области, что является значимым шагом к технологической независимости России в микроэлектронике.

Производители планируют искать заказчиков как внутри страны, так и за рубежом, начиная с предстоящей презентации в Китае. Генеральный директор НИИТМ Михаил Бирюков отметил, что на производство одного комплекта оборудования требуется около 1,5 лет.