Исследователи из Китая разработали настольный источник экстремального ультрафиолетовго излучения (EUV), который поможет стране приблизиться к самообеспеченности в производстве микрочипов. Этот источник позволяет создавать микросхемы с топологическим узлом 14 нанометров. Хотя новинка не может конкурировать с машинами ASML, она представляет собой полезную альтернативу для мелкосерийного производства чипов. Технология также может быть применена в инспекции и создании прототипов квантовых процессоров, а также для выявления дефектов фотошаблонов. Новый прибор использует фемтосекундный лазер и газ аргон, что делает его проще и дешевле традиционных машин, тем более что он требует лишь 1 микроватт мощности на импульс. Сравнительно небольшие размеры устройства и низкие эксплуатационные расходы делают его особенно важным для Китая, которому необходимо наладить производство EUV, оставаясь в рамках международных санкций.